Nanobaskı
(nanoimprint) lithografi, elektronik devrelerin veya nanoyapıların, kaplanmış
bir substrat üzerinde görüntülenmesi için geliştirilmiş bir teknolojidir. Proseste,
kalıplama ve takiben de deforme olan yapının oyulmasıyla (etcleme) kaplama
deforme edilerek substratta nanoyapılar veya elektronik devrelerin oluşturulması
sağlanır.
Nanoimprint
litografide polimer kaplama (resist) bir kalıpla (stamp) mekanik olarak deforme
edilerek ve ışınlandırmayla kaplamanın kimyasal yapısı değiştirilmeden bir imaj
oluşturulur. Nanoimprint litografi, diğer tüm litografi yöntemlerinde imkansız
olan, geniş alanlar üzerinde 10 nm'den daha küçük nanoyapıların elde edilmesini
mümkün kılar. (Bak. Litografi)
Nanobaskı litografi prosesi (baskılanmış kısım üzerindeki engel
kalıntısına anizotropik iyon oyma uygulanır)
